溫度均勻性在光刻工藝中的烘烤固化過程中至關重要，它直接影響光刻膠的固化質量和最終的圖案質量。

溫度曲線控制對圖案質量的影響

在光刻膠PI固化過程中，不同類型的光刻膠PI具有特定的固化溫度曲線，一般烤箱可預設溫度曲線，而不是不是線性加熱，精確控制升溫速率、保溫時間和降溫速率。以確保固化反應均勻進行，避免因溫度變化過快導致光刻膠內部產生應力，影響圖案質量。

同時精準的溫度控制可保證晶圓各部分受熱均勻，防止因局部過熱或過冷造成晶圓變形或內部結構損壞，從而提高晶圓的良品率。

溫度均勻性對固化質量的影響

溫度均勻性對于光刻膠PI固化和半導體晶圓烘烤至關重要，因為溫度不均勻可能導致光刻膠固化程度不一致，影響光刻圖案的精度，以及使半導體晶圓內部產生應力，降低晶圓的電學性能和機械性能。

半導體制造工藝中，在真空無氧環境下均勻烘烤，光刻膠PI的固化反應更加純凈、均勻，光刻圖案的邊緣清晰度和精度得到提升，從而有助于制造出更加精細、高性能的半導體器件。